首页> 外国专利> METHOD FOR FORMING OLED ORGANIC THIN FILM LAYERS FOR USING RF SPUTTERING APPARATUS, RF SPUTTERING APPARATUS, AND APPARATUS FOR FORMING TARGET TO BE USED IN RF SPUTTERING APPARATUS

METHOD FOR FORMING OLED ORGANIC THIN FILM LAYERS FOR USING RF SPUTTERING APPARATUS, RF SPUTTERING APPARATUS, AND APPARATUS FOR FORMING TARGET TO BE USED IN RF SPUTTERING APPARATUS

机译:形成用于使用RF溅射装置的有机薄膜层的方法,RF溅射装置以及用于形成要在RF溅射装置中使用的靶的装置

摘要

Provided is a method for forming a thin film layer of a luminescent organic material for an OLED using an RF sputtering apparatus. The method includes steps of: placing a target comprising a target material for forming a thin film layer of an luminescent organic material for an OLED at a cathode in a chamber of an RF sputtering apparatus and disposing a substrate in which the target material is to be deposited in the chamber; maintaining the chamber in a vacuum state and injecting a reaction gas into the chamber; and applying a minimum RF power and a maximum magnetic field to the target that are sufficient to generate a plasma without damaging the target material.
机译:提供一种使用RF溅射设备形成用于OLED的发光有机材料的薄膜层的方法。该方法包括以下步骤:在RF溅射设备的腔室中的阴极处放置包括用于形成用于OLED的发光有机材料的薄膜层的靶材料的靶,并布置其中将要靶材料的基板。沉积在室内将腔室保持在真空状态并将反应气体注入腔室中;向靶施加足以产生等离子体而不损害靶材料的最小RF功率和最大磁场。

著录项

  • 公开/公告号US2020259084A1

    专利类型

  • 公开/公告日2020-08-13

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MOON SOOK SO;

    申请/专利号US201716637534

  • 发明设计人 MOON SOOK SO;

    申请日2017-10-19

  • 分类号H01L51;H01L51/56;C23C14/35;C23C14/12;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 11:26:01

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号