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NbN薄膜的反应磁控溅射沉积

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摘要

@@ NbN具有较高的临界电流密度,较高的临界超导转变温度和良好的力学性能,在微电子,传感器,微机械,超导电子学和表面强化领域等方面有广阔的应用前景[1].

著录项

来源
《电子显微学报》|2002年第5期|641-642|共2页
作者
韩增虎; 赖倩茜; 田家万; 李戈扬;
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作者单位

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类特种结构材料;
关键词
NbN薄膜; 反应磁控溅射沉积; 氮分压; 微结构; 力学性能; TEM; XRD;

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