机译:反应直流磁控溅射法制备纳米TiAlN / TiN和TiN / NbN多层薄膜的界面结构的拉曼散射研究
机译:反应性直流磁控溅射制备纳米TiN / NbN和TiAlN / TiN多层涂层的结构和性能比较研究
机译:化学镀镍中间层对反应直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米TiAlN / CrN多层涂层电化学行为的影响
机译:通过反应直流磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射在SiO_2上生长的锡薄膜的比较
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:反应性DC磁控溅射纳米型TiAln / TiN和TiN / NBN多层薄膜界面结构的拉曼散射研究