PVD改性RB-SiC表面缺陷研究

摘要

为获得高表面质量的PVD改性RB-SiC反射镜,解决实际加工中出现的表面缺陷问题,对缺陷的形成机理及处理方法进行了研究.根据Preston假设设计相关试验,推测表面缺陷是由于PVD改性层中的大颗粒结晶受到较大冲击,从而使大颗粒结晶剥落而非对其产生磨削作用而产生的.试验表明:过高的抛光速度或过高的抛光压力会造成改性层表面缺陷的产生,调整抛光的相对速度及抛光压力等关键工艺参数,可在保持抛光效率的同时有效减少和避免表面缺陷问题的产生.经试验验证,当表面缺陷产生后,通过选择适当的相对速度和抛光压强,改性层去除0.7 μm～1μm后,可有效修复缺陷,并且无新的表面缺陷产生.