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林杰; 纪莲和; 王文赫;
北京智芯微电子科技有限公司,北京100192;
硅片; 背面减薄; 划片; 良率;
机译:JEOL,EB光刻系统,用于掩模光刻技术向双图案化技术发展生产率和良率提高
机译:原材料对模拟技术制造良率和器件组件性能的影响
机译:评估外延缺陷对先进IC技术的良率影响
机译:脉冲持续时间对超短脉冲激光划刻陶瓷和硅片的影响
机译:用于集成电路设计和制造中的良率建模和良率提高的框架。
机译:CT扫描引导下的肺肿块胸腔穿刺活检:技术并发症和诊断良率
机译:平静水域划独木舟技术与通道策略分析(平面划独木舟划艇技术分析与起搏策略)
机译:半导体测量技术:用于测量高电阻率圆形硅片电阻率变化的自动光伏系统
机译:集成电路处理的良率提高技术,可减少不希望的电介质水分保持和随后氢向外扩散的影响
机译:后布局电路的良率验证方法,良率验证程序和良率验证装置
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