退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
庞玉莲; 邹应全;
北京师范大学化学学院,北京100875;
光刻技术; 光刻材料; 光刻胶; 抗蚀剂; 市场前景;
机译:超磁应变材料的材料发展及应用趋势
机译:碳纤维材料的发展及应用
机译:使用负性光刻胶材料的无掩模光刻:紫外激光强度对固化线宽的影响
机译:功能包装材料的发展及应用前景
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:光子筛分:基于III-V半导体纳米线森林的选择性和敏感的光子筛,由光刻 - 无光刻工艺(晚期光学材料17/2020)
机译:利用氦镉紫外多模激光制备亚微米结构光学材料的干涉光刻性能研究
机译:成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译:用于形成光刻印刷版的图像线部分的材料,使用用于形成成像版线的材料的光刻印刷板,用于形成光刻版的图像线部分的方法以及用于重写光刻版的方法
机译:光刻印刷板,用于光刻印刷板的材料,用于光刻印刷板材料的支持以及光刻印刷方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。