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Photon Sieving: Selective and Sensitive Photon Sieve Based on III–V Semiconductor Nanowire Forest Fabricated by Lithography‐Free Process (Advanced Optical Materials 17/2020)

机译：光子筛分：基于III-V半导体纳米线森林的选择性和敏感的光子筛，由光刻 - 无光刻工艺（晚期光学材料17/2020）

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Gil Ju Lee; Kwangwook Park; Min Seok Kim; Sehui Chang; Tae Joon Seok; Hong‐Gyu Park; Gunwu Ju; Kyujung Kim; Young Min Song;
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年度 2020
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1. Selective and Sensitive Photon Sieve Based on Ⅲ–Ⅴ Semiconductor Nanowire Forest Fabricated by Lithography-Free Process [J] . Lee Gil Ju, Park Kwangwook, Kim Min Seok, Advanced Optical Materials . 2020,第17期

机译：基于Ⅲ-Ⅳ半导体纳米线森林的选择性和敏感的光子筛
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机译：通过基于像素的反光刻技术优化光子筛以接近菲涅耳衍射极限
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