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脉冲激光气相沉积法制备钴纳米薄膜实验研究

     

摘要

采用脉冲激光沉积技术制备了钴纳米薄膜,分析和讨论了不同背景气压和脉冲频率对钴纳米薄膜表面形貌的影响及纳米微粒的形成机理.实验结果表明:在低背景气压下,等离子体羽辉自身粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成液滴;在较高背景气压下,等离子体羽辉边缘粒子和背景气体粒子之间的碰撞占主导作用,容易形成小岛并凝聚成微颗粒;在4Hz的脉冲重复频率和5Pa背景气压下生长出单分散性良好的钴纳米颗粒.

著录项

  • 来源
    《强激光与粒子束》 |2004年第4期|449-452|共4页
  • 作者单位

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    中国科学院,物理研究所,北京,100080;

    中国科学院,物理研究所,北京,100080;

    四川大学,原子与分子物理研究所,四川,成都,610064;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

    中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 激光的应用;
  • 关键词

    脉冲激光气相沉积; 钴; 单分散性; 纳米薄膜;

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