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付淑英;
韩山师范学院物理与电子工程系,广东,潮州,521041;
氮化钛薄膜; 磁控溅射; 溅射气压; 光学性能;
机译:溅射气压对射频磁控溅射生长MgNiO薄膜结构和光学性能的影响
机译:衬底和Ar / N_2气体流量比对DC磁控溅射合成TiN薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:沉积参数对r的AISI 316L基材上Ti / TiN薄膜结构,机械和电化学性能的影响。 F。 磁控溅射
机译:溅射气压和衬底温度对射频磁控溅射制备ZnO:Al薄膜光学性能的影响
机译:溅射参数对RF磁控溅射沉积ITO膜的影响
机译:N2分压对液靶反应磁控溅射外延沉积GaN纳米棒生长结构和光学性能的影响
机译:磁控溅射沉积al掺杂ZnO薄膜:溅射参数对电学和光学性能的影响
机译:在批量磁控溅射工艺中最小化pt涂层微球的再溅射
机译:磁控溅射装置,磁控溅射装置及磁控溅射方法
机译:磁控溅射装置,磁控溅射设备及磁控溅射方法
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