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VeprekS; 李光志;
不详;
非晶硅; 沉积; 硅烷; 等离子体应用;
机译:通过射频等离子体化学气相沉积法从硅烷和二氯硅烷沉积的稳定氢化非晶硅膜
机译:利用Urbach能量与硅烷耗竭率之间的关系优化通过超高频等离子体增强化学气相沉积法沉积的本征氢化非晶硅
机译:四氟硅烷等离子体增强化学气相沉积法生长的非晶硅层的特殊特征
机译:d.c.制备的高沉积速率的薄膜氢化非晶硅。氦稀释的硅烷的等离子体增强化学气相沉积
机译:从乙硅烷中低压化学气相沉积非晶硅:氢。
机译:通过PECVD在镍金属化多孔硅上沉积的非晶硅薄膜的结晶
机译:远端硅烷等离子体快速沉积氢化非晶硅期间的表面反应概率
机译:硅烷等离子体中siH浓度对非晶硅薄膜沉积的衬底温度依赖性
机译:用于生产高纯度或涂层非晶硅的非晶硅的生产,有机卤代硅烷(尤其是甲基氯硅烷)的提纯或生产涉及用金属还原卤代硅烷,必要时在溶剂中进行
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