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洪波; 潘应君; 张扬; 张恒; 陆旭锋;
武汉科技大学材料与冶金学院,湖北武汉430081;
钼; 镍; 磁控溅射; 负偏压; 附着力; 表面形貌; 晶粒尺寸;
机译:负偏压对磁控溅射沉积钨氧化物薄膜组成和结构的影响
机译:基体温度对低碳钢磁控溅射镀镍中间层的氮化钛薄膜结构性能的影响
机译:负高压脉冲衬底偏压磁控溅射制备含镍导电非晶碳膜
机译:基体偏压对封闭场不平衡磁控溅射离子镀法制备的纳米多层CrTiAlN纳米涂层的力学和摩擦学性能的影响
机译:铟镓锌氧化物和锌锡氧化物薄膜晶体管的制造工艺评估和负偏压照明应力研究。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:脉冲偏压对栅极辅助磁控溅射沉积TiO:Nb薄膜粗糙度的影响
机译:用于镀银玻璃镜的化学镀镍和离子镀保护涂层。
机译:用于镀镍的添加剂,添加镀液的添加剂和用于电镀锌的薄钢板镀镍薄膜
机译:化学镀镍替代金镀层的处理方法,化学镀镍溶液及化学镀镍的镀镍的方法
机译:正电极薄膜,其制备方法是:通过将负偏压压入正电极,并沉积正电极活性材料,以及所有包含正电极薄膜的固态锂薄膜电池
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