机译:脉冲偏压对栅极辅助磁控溅射系统沉积Ti6Al4V-N薄膜的结晶度和纳米粗糙度的影响
机译:通过不平衡射频磁控溅射和脉冲直流衬底偏置沉积的立方氮化硼膜
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射沉积在柔性基板上的TiO_2薄膜的性能
机译:脉冲直流磁控溅射沉积Al和Al_2O_3薄膜的表面粗糙度控制
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:低温下大功率脉冲磁控溅射在铀上沉积的TiN膜
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜