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陈杨; 李霞章; 陈志刚;
江苏工业学院材料系;
江苏大学材料学院;
CeO2磨料; GaAs晶片; 抛光;
机译:掺Nd3 +的胶体SiO2复合磨料:蓝宝石晶片的合成及其对化学机械抛光(CMP)性能的影响
机译:GaAs晶片上使用TiO {sub} 2和H {sub} 2O {sub} 2细颗粒的CMP技术研究
机译:GaAs晶片的细粒子TiO {Sub} 2和H {Sub} 2的CMP技术研究
机译:硅晶片超声辅助固定磨料CMP(UF-CMP)的基本面研究
机译:研究新型氧化铝纳米磨料及其在铜化学机械平面化(CMP)浆料中与基本化学成分的相互作用。
机译:在n型GaAs(111)B衬底上生长的p掺杂GaAs纳米线阵列的光伏性能
机译:CEO2和纳米SiO2混合磨料抛光性能的实验研究
机译:用于Cmp和光刻的晶片平坦度的重要性
机译:掺Si的GaAs单晶晶片及其制备方法,以及由所述掺Si的GaAs单晶晶片生产的掺Si的GaAs单晶晶片
机译:GaAs晶片和GaAs晶片的制造方法
机译:GaAs晶片和制造GaAs晶片的方法
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