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陈志刚; 李霞章; 陈杨; 陈建清; 倪超英;
江苏工业学院,材料科学与工程系,常州,213016;
江苏大学,材料科学与工程学院,镇江,212013;
河海大学,材料科学与工程系,南京,210098;
特拉华大学,材料科学与工程系,纽华克,19711,美国;
纳米CeO2; GaAs; 醇水法; 抛光;
机译:静水浮法抛光,用于晶片制备
机译:GaAs晶片化学机械抛光的光催化剂作用研究
机译:改进GaAs晶片镜面抛光的焊盘寿命
机译:纳米CeO2的电子性质通过水热法合成及其对Au / CeO_2催化剂制备的影响,使用光谱技术
机译:半导体晶片的化学机械抛光:预测晶片表面形状的表面元素建模和仿真
机译:校正至:通过原子层沉积法以晶片规模制备具有有效光催化活性的亚10 nm TiO2-Ga2O3 n-p异质结
机译:采用非吸收化学 - 机械抛光,GaAs晶片表面平滑粗糙度模型
机译:浮法抛光制备石英谐振器
机译:掺Si的GaAs单晶晶片及其制备方法,以及由所述掺Si的GaAs单晶晶片生产的掺Si的GaAs单晶晶片
机译:GaAs晶片的镜面抛光液和镜面抛光方法
机译:校正在半导体制造期间使用的薄抛光晶片的形状的方法包括在抛光,干燥,硬化并通过收缩对晶片施加拉伸应力之后,用液体涂覆水。
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