State University of New York at Albany.;
机译:山梨酸钾作为铜化学机械平面化浆料中的抑制剂。第二部分:山梨酸酯对化学机械平面化性能的影响
机译:聚乙烯吡咯烷酮(PVP)作为铜化学机械平坦化抑制剂的集成电化学分析(Cu-CMP)
机译:含BTA和甘氨酸的过氧化物浆料中铜化学机械平面化(CMP)的电化学方面
机译:基于过氧化物浆料的铜化学机械平坦化(CMP)的电化学方面
机译:铜化学机械平面化(CMP)过程中化学和机械相互作用的表征和分析。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:使用大型图案测试掩模直接测量铜化学机械平面抛光(cmp)工艺的平面长度