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文九巴; 樊丽梅; 赵胜利; 祝要民;
河南科技大学材料科学与工程学院;
单晶硅片; 化学蚀刻; 表面形貌;
机译:通过丝网印刷和化学蚀刻法形成具有选择性发射极的单晶硅太阳能电池:可行性研究
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机译:电位模式下单晶硅(100)晶片电化学氧化行为的研究
机译:CMOS浅沟槽隔离(STI)形状控制的湿化学蚀刻行为研究
机译:超声分子束研究IV族氢化物在单晶硅和锗上的解离化学吸附。
机译:光学化学蚀刻和生物降解镁AZ31支架的光学化学蚀刻和体内测试的初步研究
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机译:以预测单晶硅中产生的氧沉积行为的单晶硅中的氧沉淀行为预测方式,以单晶硅中的氧沉淀行为预测方式预测氧沉积行为
机译:单晶硅中的氧析出行为估计方法和单晶硅的生产参数决定方法,记忆单晶硅中的氧析出行为估计程序的存储介质
机译:确定单晶硅晶片中的氧沉淀行为模型的方法,确定使用所述模型生产单晶硅晶片的过程的方法以及记录介质,该程序携带用于确定单晶硅晶片中的氧沉淀行为模型的程序
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