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樊丽梅; 文九巴; 赵胜利; 祝要民;
河南科技大学材料科学与工程学院;
化学蚀刻; 单晶硅片; 表面形貌;
机译:通过化学蚀刻对高电阻率单晶硅表面进行显微组织
机译:通过单晶硅的金属辅助化学蚀刻形成的半导体结构的表面区域的特征
机译:KOH各向异性湿化学腐蚀过程中单晶硅表面的微观形貌:速度源森林
机译:通过电化学蚀刻制备的纳米结构多孔硅层的I-V和表面形貌研究
机译:研究了在电解溶液中和高温下(表面变形,化学机械效应)归因于单晶硅和砷化镓的裂纹和损伤。
机译:ZnO晶体化学气相迁移的表面形貌研究
机译:铜酞菁薄膜的干蚀刻:对形貌和表面化学计量的影响
机译:NCms pWB项目报告表面完成团队任务WBs No.3.1.1:阶段1,蚀刻研究:化学蚀刻铜以提高可焊性
机译:皮肤通过辊纹理化以形成表面形貌-使用化学蚀刻雕刻并通过研磨增加纹理深度,以改善摩擦学
机译:光学活性微结构的生产,例如透镜,包括在基底上机械形成光学活性表面形貌,通过光刻法掩盖形貌,以及通过蚀刻使之平滑
机译:在单晶硅晶片中形成沟槽-包括形成蚀刻掩模续。 (110)晶片表面上的平行四边形窗口,各向异性蚀刻等。
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