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李荣花;
绍兴文理学院计算机系;
多晶ZnO薄膜; RF反应溅射; 退火; 结构特性;
机译:退火温度对Li-N共掺杂多晶ZnO薄膜晶体管电学特性的影响
机译:退火温度对化学沉积在PS衬底上的ZnO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:膜厚和退火温度对通过原子层沉积法生长的Si(100)衬底上ZnO薄膜的结构和光学性质的影响
机译:衬底温度和退火后处理对溅射沉积ZnO:Al薄膜微结构和电性能的影响
机译:ZnO和ZnO基薄膜合金退火的函数的温度依赖带边缘分布分析
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:沉积退火对ZnO / Ag / ZnO薄膜的结构,电气和光学性能的影响
机译:CmR薄膜的微观结构研究作为沉积和退火的生长温度的函数
机译:具有光伏特性的薄膜的生产,包括沉积交替的I / III或III / I多层结构并退火所述结构
机译:一种制造白色薄膜的方法,该薄膜可通过控制其制造过程中的延伸温度,延伸比例和热退火温度来获得具有均匀特性的薄膜
机译:利用原子层沉积和退火工艺制备ZnO薄膜的方法
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