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龚恒翔; 阎志军; 杨映虎; 王印月;
中国电子学会;
薄膜; RF反应溅射; 择优取向;
机译:沉积条件对射频反应溅射多晶ZnO薄膜结构性能的影响
机译:氧分压对反应溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:沉积条件对高铝含量FTS模式脉冲直流反应溅射制备CrA1N薄膜结构和性能的影响
机译:RF磁控溅射沉积超掺杂ZnO薄膜结构,光学和形态学性能的影响
机译:目标温度对金属氧化物的直流反应溅射沉积的影响。
机译:增长条件对超声波喷雾热解沉积ZnO种子层生长的CBD合成ZnO纳米棒性能的影响
机译:各种衬底温度对RF磁控溅射沉积的ZnO薄膜结构和电性能的依赖性
机译:加工变量对ZnO薄膜结构和性能的影响
机译:ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管的制造方法,ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管
机译:控制电化学测试条件的,能够在短时间内沉积均匀的ZnO薄膜的ZnO的电沉积方法与现有方法相比较
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