沉积条件对RF反应溅射多晶ZnO薄膜结构的影响

摘要

采用RF反应溅射法在Si(1 1 1 )、玻璃衬底上制备了具有良好C轴取向的多晶ZnO薄膜。用XRD分析了沉积条件 (衬底温度、工作气体中的氧与氩气压比和衬底种类 )对样品结构的影响。发现 (1 )薄膜的取向性随着衬底温度的升高而增强 ,超过40 0℃后薄膜质量开始变差 ;(2 )工作气体中氧与氩气压比 (PO2 PAr)为 2 :3时 ,薄膜取向性最好 ;(3)薄膜晶粒尺寸 1 1～ 34nm ,相同沉积条件下 ,单晶硅衬底样品 (0 0 2 )衍射峰强度减弱 ,半高宽无明显变化。