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谢振宇; 龙春平; 邓朝勇; 林承武;
北京京东方光电科技有限公司;
栅界面层; 氮化硅; 光禁带宽度; 介电常数; 导通电流;
机译:使用Ashby法,VIKOR法和TOPSIS法研究纳米晶硅(nc-Si)顶栅薄膜晶体管(TFT)中栅极电介质的材料选择
机译:蓝激光退火宽厚度范围非晶硅薄膜的横向晶粒生长及其在高性能多晶硅TFT中的应用
机译:利用有机栅TFT评估多晶硅晶界的载流子传输机理
机译:原位氢退火对底栅纳米晶硅TFT中低温氮化硅层介电性能的影响
机译:溅射法研究非晶硅薄膜和超晶格薄膜的结构和光电性能
机译:用于性能提高的表面电磁波生物传感器的氢化非晶硅氮化硅光子晶体
机译:纳米晶硅薄膜晶体管(nc-Si TFT)上使用晶界的场效应迁移率建模
机译:非晶硅基薄膜光伏器件的研究:任务B,稳定高效大面积,非晶硅基子模块的研究。半年度分包合同报告,1989年3月16日至1989年11月30日。
机译:感应耦合化学气相沉积法,非晶硅薄膜,氮化硅薄膜和使用瑟勒夫制成的非晶薄膜晶体管
机译:使用脉冲状ECR等离子体清洁TFT-LCD的基板和高速沉积高质量非晶非晶硅薄膜的装置和方法
机译:非晶硅的晶化方法及其应用-薄膜晶体管和tft-lcd的制造方法
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