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原位直流磁控溅射制备YBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜

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摘要

采用改装的直流磁控溅射设备,在适当的氧、氩气体中,对被溅射衬底加热进行YBCO材料的直流磁控溅射,溅射结束继续按温度程序控制曲线原位进行1个大气压下的氧气中退火,所得到的YBCO薄膜,其零电阻转变温度T_co一般在85～90K,临界电流密度J_c(77K)可以大于1×10~6A/Cm^2.

著录项

来源
《固体电子学研究与进展》 |1991年第1期|51-54|共4页
作者
杨德嘉; 经东; 曹春海; 王予良; 过海洲; 邵凯;
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作者单位

南京电子器件研究所;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TM260.5;
关键词
超导薄膜; 制备; 磁控溅射法; YBCO;

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