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MgB2 superconducting thin films sequentially fabricated using DC magnetron sputtering and thermionic vacuum arc method

机译:直流磁控溅射和热电子真空电弧法相继制备的MgB2超导薄膜

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摘要

In this work, we discuss fabrication and characterization of MgB2 thin films obtained by sequential deposition and annealing of sandwich like Mg/B/Mg thin films on glass substrates. Mg and B films were prepared using DC magnetron sputtering and thermionic vacuum arc techniques, respectively. The MgB2 thin films showed superconducting critical transition at 33 K after annealing at 650 °C.
机译:在这项工作中,我们讨论了通过在玻璃基板上依次沉积和退火三明治状Mg / B / Mg薄膜而获得的MgB2薄膜的制造和表征。 Mg和B膜分别使用直流磁控溅射和热电子真空电弧技术制备。在650°C退火后,MgB2薄膜在33 K处显示出超导临界转变。

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