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彭英才; 何宇亮;
河北大学电子与信息工程系;
北京航空航天大学非晶态物理与光信息研究室;
薄膜; 生长; PECVD法; 结构;
机译:低能PECVD生长的nc-Si薄膜的结构均匀性
机译:VHF-PECVD工艺生长纳米晶硅薄膜粘接环境和结构性能的研究
机译:多孔阳极铝模板生长的PECVD A-SiH薄膜光学和结构性能研究
机译:射频功率对VHF-PECVD制造的NC-Si薄膜结构性能的影响
机译:研究热生长和远端PECVD沉积的二氧化硅薄膜中的局部原子结构和热历史。
机译:通过PECVD沉积低缺陷密度nc-Si:H薄膜的便捷有效方法
机译:Si和Ge(100)衬底上通过低温RF-PECVD外延生长的弛豫薄膜锗层的结构特性
机译:用ECR-pECVD技术高效生长水解非晶硅锗薄膜和器件
机译:带有n ep u00e4homogeeniset生长薄膜的pecvd
机译:薄膜生长结构,薄膜生长方法和薄膜热处理
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