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梅芳; 弓满锋; 李玲;
湛江师范学院物理系;
溅射技术; SiC薄膜; 进展;
机译:射频磁控溅射沉积a-SiC:H和a-SiC薄膜中退火和氧化效应的比较研究
机译:HDP-CVD STI氧化物工艺,具有原位后沉积,侧向增强的溅射刻蚀,可减少深亚微米技术中的图案依赖性薄膜形貌
机译:通过悬臂的制造工艺研究SiC薄膜在MEMS技术中的应用
机译:通过快速冷却工艺的溅射沉积,高度C轴取向的单晶Pb(Zr,Ti)O 3薄膜通过溅射沉积通过溅射沉积
机译:通过轧制溅射沉积工艺沉积在柔性玻璃基板上的氧化铟锌,氧化铟锡和钼薄膜的表征
机译:两步沉积技术溅射参数对柔性哈氏合金带AlN薄膜生长的影响
机译:通过磁控共溅射工艺沉积的基板约束外延Ni-mn-Ga薄膜中的马氏体结构和孪晶
机译:离子束溅射沉积高(Tc)超导薄膜的离子散射和溅射工艺研究:沉积参数的优化。
机译:薄膜沉积技术的安装,最好是报道的PECVD和“溅射”,以及相关工艺。
机译:薄膜沉积设备,主要致力于PECVD和溅射技术以及各自的工艺
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