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脉冲溅射技术在氧化铝薄膜沉积中的应用

     
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摘要

脉冲溅射是一种新型的、用于消除直流反应溅射中异常放电的技术.通过采用金属铝靶和自制的脉冲电源进行了氧化铝薄膜的脉冲磁控反应溅射沉积实验,讨论了脉冲溅射参数对异常放电的抑制效果,以及对氧化铝薄膜的沉积速率和折射率的影响.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》|2001年第2期|35-39|共5页
  • 作者

    茅昕辉; 蔡炳初; 陈国平;

  • 作者单位

    上海交通大学信息存储研究中心,薄膜与微细技术教育部开发实验室,上海 200030;

    上海交通大学信息存储研究中心,薄膜与微细技术教育部开发实验室,上海 200030;

    东南大学薄膜研究所,南京 210096;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN305@92;TN304@055;
  • 关键词

    脉冲溅射; 氧化铝薄膜; 反应溅射;

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