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机译:薄膜沉积技术的安装,最好是报道的PECVD和“溅射”,以及相关工艺。
公开/公告号IT1261227B
专利类型
公开/公告日1996-05-09
原文格式PDF
申请/专利权人 CE.TE.V. CENTRO TECNOLOGIE DEL VUOTO;
申请/专利号IT1993RM00216
发明设计人 SIMONETTI ENRICO;MISIANO CARLO;
申请日1993-04-06
分类号6B65HA;
国家 IT
入库时间 2022-08-22 03:52:09
机译: 薄膜沉积技术的安装,最好是报道的PECVD和“溅射”,以及相关工艺。
机译: 薄膜沉积设备,主要致力于PECVD和溅射技术以及各自的工艺