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王军; 成建波; 饶海波; 蒋亚东; 杨刚;
电子科技大学光电信息学院;
薄膜; 氧化铟锡(ITO); 直流磁控溅射; 沉积气压; 流量比;
机译:磁控溅射ITO靶制备ITO薄膜(等离子体条件和衬底温度对ITO薄膜性能的影响)
机译:溅射气体和工作电压对通过倾斜对置靶型直流磁控溅射法涂覆在有机基板上的ITO薄膜的光学和电学特性的影响
机译:倾斜计数器靶型DC磁控溅射方法溅射气体和工件电压对有机基质涂覆的ITO薄膜光学电气特性
机译:由气体定时RF磁控溅射为透明柔性天线制备的ITO薄膜
机译:研究基于氧化物和硫化物的低维纳米结构,用于电导率气体传感器,忆阻器和光电探测器。
机译:射频磁控溅射制备高透射率和红外反射率的纳米柱状结晶ITO薄膜
机译:由D.C.磁控溅射制备的ITO和ITO / AG / ITO多层薄膜的微观结构和性能
机译:离子束溅射制备低掺杂sn掺杂In2O3(ITO)薄膜。
机译:用于形成低色阻薄膜,低色阻薄膜和具有低色阻薄膜的玻璃制品的涂布液
机译:平面磁控溅射装置无效,用于ITO薄膜的形成
机译:低电阻ITO薄膜及其制造方法
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