磁控溅射制备In2O3/ITO透明薄膜热电偶及其性能研究

目录

声明

1 绪 论

1.1 薄膜热电偶测温技术简介

1.2 薄膜热电偶的测温原理及结构

1.2.1 薄膜热电偶的测温原理

1.2.2 薄膜热电偶的结构

1.3 薄膜热电偶的研究现状

1.3.1 不同组成材料的薄膜热电偶

1.3.2 阵列型薄膜热电偶

1.4 研究意义及内容

1.4.1 研究意义

1.4.2 研究内容

2 薄膜热电偶的制备与表征

2.1 薄膜热电偶电极材料和基底选取

2.2 薄膜热电偶的制备

2.3薄膜热电偶的表征

2.3.1 表面形貌分析

2.3.2 物质结构分析

2.3.3 电学性能分析

2.3.4 光学性能分析

2.4 薄膜热电偶的标定

2.5 实验所用仪器与设备

3 玻璃基In2O3/ITO薄膜热电偶的制备工艺研究

3.1 引言

3.2 退火温度对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

3.2.1 退火温度对ITO薄膜结构与形貌的影响

3.2.2 退火温度对ITO薄膜电学和光学性能的影响

3.2.3 退火温度对ITO薄膜Seebeck系数的影响

3.2.4 In2O3/ITO薄膜热电偶的热电响应测试

3.3 溅射气压对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

3.3.1 溅射气压对ITO薄膜结构和形貌的影响

3.3.2 溅射气压对ITO薄膜电学和光学性能的影响

3.3.3 溅射气压对In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

3.4 氧含量对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

3.4.1 氧含量对ITO薄膜结构和形貌的影响

3.4.2 氧含量对ITO薄膜电学及光学性能的影响

3.4.3 氧含量对In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

3.5 本章小结

4 拉伸对PI基In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

4.1 引言

4.2 不同柔性基底对In2O3/ITO薄膜热电偶热电响应的影响

4.3 PI基In2O3/ITO薄膜热电偶及其表面形貌

4.4 拉伸对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

4.4.1 拉伸应变对薄膜热电偶电极光学和电学性能的影响

4.4.2 拉伸对In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

4.5 In2O3与ITO薄膜的拉伸力学仿真

4.6 本章小结

5 弯曲对PI基In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

5.1 引言

5.2 弯曲对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

5.2.1 弯曲对In2O3与ITO薄膜电阻的影响

5.2.2 弯曲对In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

5.3 SiO2中间层对In2O3/ITO薄膜热电偶性能的影响

5.3.1 SiO2中间层对In2O3与ITO薄膜性能的影响

5.3.2 弯曲对In2O3/ITO薄膜热电偶热电性能的影响

5.4 本章小结

6 结 论

参考文献

附录 硕士研究生期间发表论文

致谢