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夏冬林; 杨晟; 王树林; 赵修建;
武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室;
武汉工程大学材料科学与工程学院;
射频磁控溅射法; ITO; 导电薄膜; 光电性能; 玻璃基片;
机译:射频磁控溅射法制备柔性锂离子导电薄膜的性能研究
机译:射频磁控溅射法制备GZO薄膜的表征及In / GZO / Si / Al二极管的电性能
机译:射频磁控溅射法制备高性能透明掺锂铟锡锌氧化物薄膜晶体管
机译:射频磁控溅射法制备Er〜(3 +)/ Pr〜(3+)共掺杂钠钙玻璃薄膜及其光学性能表征
机译:反应性射频磁控溅射法合成铜铁矿薄膜及其表征
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:氮化钽薄膜的结构和电学性能 采用反应射频磁控溅射法制备
机译:采用射频溅射法制备高性能镉铟透明导电薄膜
机译:用射频磁控溅射法和薄膜太阳能电池用射频薄膜制备木质薄膜的方法
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
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