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职利; 徐华蕊; 周怀营;
桂林电子科技大学信息材料科学与工程系;
直流磁控溅射; ITO薄膜; 氩气压强; 电导率; 透过率;
机译:CdCl_2气氛下的后退火对直流磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:CdCl 2 sub>气氛下的后退火对直流磁控溅射沉积ITO薄膜性能的影响
机译:脉冲直流磁控溅射在Ar / H_2等离子体中在聚合物上低温合成ITO薄膜
机译:O 2 inf> / Ar流量比不同的磁控溅射沉积ITO薄膜的薄膜电阻和光学性能
机译:研究ha和铬的添加对沉积在镍基高温合金上的直流磁控溅射β-镍-铝粘结涂层的微观结构和短期氧化性能的影响。
机译:直流反应磁控溅射制备纳米结构多孔ZnO薄膜的表面性能
机译:由D.C.磁控溅射制备的ITO和ITO / AG / ITO多层薄膜的微观结构和性能
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:在真空状态下的光学薄膜内部的膜状零反应性直流磁控溅射装置用于高级真空
机译:活性直流磁控溅射法在石英基体上形成与高性能紫外波长区域相对应的氟化物光学薄膜的方法
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
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