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机译:脉冲直流磁控溅射在Ar / H_2等离子体中在聚合物上低温合成ITO薄膜
Center for Advanced Plasma Surface Technology, Sungkyunkwan University, 300 Cheoncheon-dong, Jangan-gu, Suwon, 400-746, South Korea;
indium tin oxide; ITO; pulsed magnetron sputtering; hydrogen; polymer;
机译:等离子体辅助反应式脉冲直流磁控溅射低温形成c轴取向氮化铝薄膜
机译:反应性脉冲直流磁控溅射制备氮化钽薄膜的合成及高温X射线衍射研究
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机译:H_2 / Ar气体直流磁控溅射Ga掺杂ZnO薄膜
机译:用于微辐射热计应用的脉冲直流磁控溅射氧化钒薄膜的制备,表征和沉积后修饰
机译:TiO2光催化薄膜的高速低温直流脉冲磁控溅射:重复频率的影响
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