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顾志光; 孙钧; 郑国祥; 龚大卫;
复旦大学材料科学系;
上海先进半导体制造有限公司;
驻波效应; 抗反射膜; 亚微米; 深亚微米光刻;
机译:通过贴花转移光刻和反应性离子束蚀刻在电子材料上的聚二甲基硅氧烷抗蚀剂的微米和亚微米图案化:在高迁移率薄膜晶体管的制造中的应用
机译:亚半微米光刻技术中显影时间对工艺窗口的影响
机译:亚微米光刻缺陷模拟在提高IC良率中的应用
机译:在亚微米接触窗口光刻中的光学发射技术在亚微米接触窗口中的应用
机译:轨道蚀刻玻璃膜在亚微米制造,光刻和纠错中的应用。
机译:用于在聚合物基底上生成微米和亚微米图案的微穿孔光刻技术
机译:使用无阻电子束光刻工艺在硅上制造亚微米硅化物结构的方法
机译:抗蚀技术与加工XII的进展。亚0.25微米光刻的193纳米硅烷化工艺的优化
机译:产生微米级和亚微米级液滴的浓雾的方法和设备及其在产生极紫外光中的应用,特别是用于光刻
机译:亚半微米分辨率光刻的两层染料光刻胶工艺
机译:在不使用具有亚微米尺寸的光刻掩模的情况下进行微米和亚微米图案化
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