机译:通过氮化硅薄膜和钽基板上的硅化物直写电子束光刻工艺(SiDWEL)来制造硅化物结构
机译:使用无阻电子束光刻工艺制造亚微米级栅极MOSFET的硅化过程
机译:Ga〜+无阻光刻和反应离子刻蚀技术处理硅纳米结构
机译:电子束光刻制造的亚微米CCD存储结构
机译:电子束熔化和热处理制造铝化钛超合金原型原型的微观结构及性能
机译:能量输入对电子束熔融增材制造铝钛合金组织和力学性能的影响
机译:用于制造50 nm以下硅化物结构的无阻电子束光刻工艺
机译:聚合物表面的改性及亚微米级功能化结构的深紫外和电子束光刻制备