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蒋显亮; MaherBoulos;
中南大学,材料科学与工程学院,长沙,410083;
Department of Chemical Engineering, University of Sherbrooke, Sherbrooke, J1K 2R1, Canada;
钨粉; 甲烷; 感应等离子体; 碳化钨; 炭化过程;
机译:工艺参数对金属钨粉中感应碳化钨反应等离子体反应沉积的影响
机译:工艺参数对金属钨粉感应等离子体反应沉积碳化钨的影响
机译:射频感应耦合等离子体增强化学气相沉积法在WC-Co上沉积Ti-Si-N涂层和力学性能
机译:射频等离子体增强化学VAPIR沉积 - 射频等离子体的化学VAPIR沉积基本研究射频等离子体增强的发光谱
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:具有交叉内部振荡电流的低频感应耦合等离子体中的射频功率沉积的磁场和均匀性
机译:射频等离子体CVD(化学气相沉积)反应器中流场的计算
机译:射频供电的等离子体增强化学气相沉积反应器和实现等离子体增强化学气相沉积的方法
机译:射频功率等离子体增强化学气相沉积反应器和影响等离子体增强化学气相沉积的方法
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