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两步化学沉积法制备ZnO薄膜及其场发射特性

         

摘要

在低温常压条件下,以ITO玻璃为衬底,采用电化学法与湿化学法结合的两步化学沉积法制备了团簇状ZnO薄膜.利用XRD,SEM分析了薄膜结构和表面形貌,并采用二极管结构在高真空条件下对薄膜进行了场发射性能测试.稳定发射后,开启电场为3.0 V/μm.当电场为5.8 V/μm时,电流密度为583.3 μA/cm2.研究表明:两步化学沉积法低温制备ZnO薄膜是可行的,且该薄膜具有良好的场发射性能.

著录项

  • 来源
    《发光学报》 |2009年第3期|368-372|共5页
  • 作者单位

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

    郑州大学,物理工程学院材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TN873.95;
  • 关键词

    ZnO薄膜; 两步化学法; 场发射;

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