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赵俊; 杨树敏; 薛超凡; 吴衍青; 陈宜方; 邰仁忠;
复旦大学信息科学与工程学院 上海 200433;
中国科学院上海高等研究院 上海光源 上海 201204;
极紫外; 光刻胶检测; 干涉光刻;
机译:薄膜透射法在极紫外(EUV)波长下的光刻胶吸收测量
机译:含金属光刻胶在极紫外光下的吸收系数
机译:快速光刻胶激活剂量法,可用于极紫外光刻
机译:金属基杂化极紫外光刻胶的构图机理
机译:光刻胶工艺的中尺度模拟和按形状索引的水凝胶生物传感器阵列平台。
机译:极紫外到可见光分散单光子检测可对各种样品中的基本过程进行高灵敏度检测
机译:使用极紫外光刻制造的分子和纳米电子测试(mONET)平台。
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。
机译:极紫外光刻系统,具有检测器以检测散射在测试区域中被照射颗粒上的光源的辐射,以及用作极紫外光源的光源,用于在晶片上产生结构
机译:用于检测极紫外光源装置中的辐照度分布的方法和用于极紫外光源装置的检测装置
机译:极紫外光刻胶膜及其制造方法
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