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Ultra-short-period W/B(4)C multilayers for X-ray optics-microstructure limits on reflectivity.

机译:用于X射线光学显微结构的超短周期W / B(4)C多层结构对反射率的限制。

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摘要

W/B{dollar}sb4{dollar}C multilayer thin films were fabricated by magnetron sputtering on Si(111) substrates for applications as linear polarizing optical elements for soft x-rays, with periods from 48A to as little as 4.7A. The x-ray reflectivity measured at {dollar}lambda{dollar} = 1.54A and at 45{dollar}spcirc{dollar} incidence {dollar}rm(14.4A
机译:通过磁控溅射在Si(111)衬底上制备W / B {sb4 {dollar} C}多层薄膜,以用作软X射线的线性偏振光学元件,周期从48A到低至4.7A。发现在{dollar} lambda {dollar} = 1.54A和在45 {dollar} spcirc {dollar}入射时{dollar} rm(14.4A

著录项

  • 作者单位

    University of California, Berkeley.;

  • 授予单位 University of California, Berkeley.;
  • 学科 Engineering Materials Science.; Physics Optics.
  • 学位 Ph.D.
  • 年度 1997
  • 页码 139 p.
  • 总页数 139
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 工程材料学;光学;
  • 关键词

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