Stanford University.;
机译:硅衬底上紫外臭氧氧化的氧化锆和氧化锆栅电介质的膜和界面层特性
机译:具有CVD HfO {sub} 2栅极电介质和硅表面钝化的栅极优先锗nMOSFET
机译:后沉积UV-臭氧处理:一种提高金薄膜直接粘附到氧化硅的能力技术
机译:通过UV-ozone治疗将HFO_2作为栅极电介质的玻璃OTFT的性能提高
机译:紧凑的栅极电容和栅极电流建模,可用于超薄(EOT〜1 nm及以下)二氧化硅和高kappa栅极电介质。
机译:紫外/臭氧后处理对低温氧化薄膜晶体管的超声喷涂氧化锆介电膜的影响
机译:硫钝化锗上高κ电介质的原子层沉积
机译:氧化硅衬底上薄,连续铝合金薄膜热应力循环的模拟。