蓝宝石衬底上InAlN材料的MOCVD外延生长研究

目录

声明

第 1 章 绪论

1.1研究背景及意义

1.2 材料简介及研究进展

1.3本论文主要研究内容

第2章 材料制备技术及特性表征设备

2.1 引言

2.2材料制备技术

2.3特性表征设备

2.4 本章小结

第 3 章 GaN薄膜的外延生长研究

3.1引言

3.2低温GaN缓冲层对GaN薄膜晶体质量的影响

3.3 GaN薄膜的生长工艺条件优化

3.4 本章小结

第 4 章 GaN/蓝宝石衬底上InAlN薄膜的外延生长研究

4.1引言

4.2生长温度对InAlN薄膜特性的影响

4.3生长压力对InAlN薄膜特性的影响

4.4气相V/III对InAlN薄膜特性的影响

4.5 本章小结

结论

参考文献

作者简介及科研成果

致谢