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单层二硫化钼的生长及性能研究

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第一章 绪论

1.1研究背景

1.2 MoS2薄膜的制备方法

1.3 MoS2薄膜的应用

1.4选题依据及研究内容

第二章 单层MoS2的制备与表征

2.1引言

2.2实验原理

2.3实验设备

2.4实验材料

2.5 MoS2薄膜的制备

2.6 MoS2薄膜表征

2.7本章小结

第三章 影响MoS2生长的因素

3.1引言

3.2不同温区生长分布

3.3不同时间生长研究

3.4其他实验条件研究

3.5本章小结

第四章 生长基底对MoS2生长的影响

4.1引言

4.2转移的h-BN薄膜上生长MoS2

4.3转移的石墨烯薄膜上生长MoS2

4.4有Mn沉积的硅片上生长MoS2

4.5本章小结

第五章 MoS2在电解水催化方面的应用

5.1引言

5.2二硫化钼薄膜制备

5.3二硫化钼薄膜表征

5.4二硫化钼电解水催化测试

5.5本章小结

第六章 总结与展望

6.1研究总结

6.2展望

致谢

参考文献

附录

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著录项

  • 作者

    金圣忠;

  • 作者单位

    杭州电子科技大学;

  • 授予单位 杭州电子科技大学;
  • 学科 电子信息材料
  • 授予学位 硕士
  • 导师姓名 赵士超;
  • 年度 2018
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 中文
  • 中图分类
  • 关键词

    单层; 二硫化钼; 生长;

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