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第一章绪论
第二章超导薄膜的制备方法
第三章大面积薄膜均匀性的模拟
第四章MgO衬底上制备TL-2212超导薄膜
第五章结论与展望
致谢
参考文献
附录
个人简历
吕琳;
南开大学;
Tl-2212高温超导薄膜; 粒子分布; 射频磁控溅射; 计算机模拟; MgO衬底; 外延生长;
机译:大面积外延TL-2212高温超导薄膜的生长和性能分析
机译:MgO和蓝宝石衬底上Tl-2212薄膜的缓冲层
机译:CEO_2缓冲MgO衬底上双面TL-2212薄膜的生长
机译:大面积位错缺陷的发展减少了硅(111)衬底上的III型氮化物层。
机译:石墨烯单层的紧凑屏蔽导致具有大面积均匀性和长期稳定性的非凡SERS活性衬底
机译:大面积硅衬底上的CVD金刚石生长大面积硅衬底上的CVD金刚石生长
机译:在mgO(100)和(110)衬底上的外延Co / Cr超晶格中的磁各向异性,耦合和传输
机译:在其上生长单晶金刚石的基础材料包括基础衬底,键合的单晶MgO层和异质外延膜,以及在该基础材料上制造单晶金刚石衬底的方法
机译:三维衬底上大面积涂层制备大面积涂层的方法和装置
机译:多层III族氮化物缓冲剂在大面积硅衬底和其他衬底上的生长
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