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第1章 文献综述
1.1 引言
1.2 透明导电氧化物薄膜
1.2.1 氧化锡薄膜(TO)
1.2.2 掺锑的氧化锡薄膜(ATO)
1.2.3 掺氟的氧化锡薄膜(FTO)
1.2.4 氧化铟(In2O3)
1.2.5 掺锡的氧化铟(ITO)
1.2.6 掺铝的氧化锌薄膜(AZO)
1.2.7 其他的一些透明导电氧化物
1.3 透明导电氧化物的优缺点
1.4 CdO透明导电薄膜特点
1.5 CdO的性质
1.6 CdO薄膜的应用
1.6.1 CdO在光电器件方面的应用
1.6.2 CdO在气敏材料中的应用
1.6.3 CdO在太阳能电池的应用
1.7 CdO薄膜制备技术的简介
1.7.1 化学气相沉积(Chemical vapor deposition)
1.7.2 分子束外延(MBE)技术
1.7.3 激光沉积(PLD)
1.8 本课题研究意义及内容
第二章 磁控溅射成膜原理和工艺
2.1 磁控溅射法原理
2.2 射频反应磁控溅射法原理
2.2.1 射频辉光放电
2.2.2 射频反应磁控溅射原理
2.2.3 射频频反应磁控溅射系统
2.3 溅射成膜的特性
2.3.1 溅射过程
2.3.2 薄膜生长模式和形成过程
2.3.3 溅射机理
2.4 溅射的特点和应用
2.4.1 溅射的特点
2.4.2 溅射的应用
2.5 本章小结
第3章 磁控溅射制备氧化镉薄膜
3.1 射频磁控溅射CdO薄膜的制备
3.1.1 靶的制备
3.1.2 衬底准备和衬底清洗
3.2 CdO薄膜的制备过程
3.3 CdO薄膜的性能测试
3.3.1 薄膜结构的测试
3.3.2 薄膜光学性能的测试
3.3.3 薄膜表面形貌的测试
3.4 本章小结
第4章 生长参数对CdO薄膜的影响
4.1 CdO薄膜的制备
4.2 氧气流量对CdO薄膜性能的影响
4.2.1 氧气流量对CdO薄膜的结构和结晶取向影响
4.2.2 氧气流量对CdO薄膜厚度的影响
4.2.3 氧气流量对CdO薄膜电学性能的影响
4.2.4 氧气流量对CdO薄膜光学性能的影响
4.3 衬底温度对CdO薄膜性能的影响
4.3.1 衬底温度对CdO薄膜的结构和结晶取向影响
4.3.2 衬底温度对CdO薄膜表面形貌的影响
4.3.3 衬底温度对CdO薄膜电学性能的影响
4.3.4 衬底温度对CdO薄膜光学性能的影响
4.4 溅射功率对CdO薄膜性能的影响
4.4.1 溅射功率对CdO薄膜的结构和结晶取向影响
4.4.2 溅射功率对CdO薄膜电学性能的影响
4.4.3 溅射功率对CdO薄膜光学性能的影响
4.5 溅射时间对CdO薄膜性能的影响
4.5.1 溅射时间对CdO薄膜的结构和结晶取向影响
4.5.2 溅射时间对CdO薄膜电学性能的影响
4.5.3 溅射时间对CdO薄膜光学性能的影响
4.6 本章小结
第5章 CdO双层增透膜的制备与表征
5.1 引言
5.2 双层增透膜原理
5.3 试验过程
5.3.1 衬底的清洗和安装
5.3.2 薄膜的制备
5.4 室温下生长Al2O3-CdO双层增透膜的性能测试
5.4.1 Al2O3厚度对Al2O3-CdO双层增透膜结晶性能的影响
5.4.2 Al2O3厚度对Al2O3-CdO双层增透膜电学性能的影响
5.4.3 Al2O3厚度对Al2O3-CdO双层增透膜光学性能的影响
5.5 本章小结
第6章 结论
致谢
参考文献
附录