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目录
第一章 绪 论
1.1 铁电材料
1.2 铁电材料的分类
1.3 铁电薄膜研究现状及问题
1.4 PHT材料简介
1.5 钙钛矿型铁电薄膜
1.6 论文选题及研究方案
第二章 薄膜的制备工艺与表征方法
2.1 PHT薄膜的制备方法简介
2.2 PHT薄膜的微观结构表征方法
2.3 PHT薄膜的电学性能测试
第三章 Pt/TiO2/SiO2/Si衬底上PHT薄膜的生长及性能研究
3.1 脉冲激光沉积法制备PHT薄膜
3.2 氧分压对PHT薄膜的影响
3.3 生长温度对PHT薄膜的影响
3.4 低温自缓冲层对PHT薄膜的影响
3.5 本章小结
第四章 Al2O3衬底上PHT薄膜的生长及性能研究
4.1 Al2O3衬底上直接制备PHT薄膜
4.2 Al2O3衬底上MgO缓冲制备PHT薄膜
4.3 不同底电极对PHT薄膜的影响
4.4 MgO缓冲层对PHT性能的影响
4.5 本章小结
第五章 PHT薄膜与GaN半导体的集成及性能研究
5.1 GaN衬底上直接制备PHT薄膜
5.2 GaN衬底上MgO缓冲制备PHT薄膜
5.3 PHT/GaN集成薄膜性能分析
5.4 本章小结
第六章 结论
致谢
参考文献
攻读硕士学位期间取得的成果