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第一章 绪论
1.1 研究背景
1.2 研究现状和主要问题
1.2.1 国内外发展现状
1.2.2 本文研究内容及论文结构
第二章 MOS电路辐射损伤表征研究
2.1 辐射环境
2.1.1 空间辐射环境
2.1.2 辐射剂量表征
2.2 辐照效应及辐射损伤机理
2.2.1 总剂量效应
2.2.2 剂量率效应
2.2.3 单粒子效应
2.2.4 辐射损伤机理
2.3 MOS器件辐照损伤机理研究
2.3.1 SiO2介质材料的器件应用
2.3.2 SiO2介质材料辐射损伤机理
2.3.3 MOS器件辐射电参数的退化
2.4 小结
第三章 存储器辐照试验方法研究分析
3.1 存储器的工作原理
3.1.1 EEPROM存储器的工作原理
3.1.2 闪烁存储器的工作原理
3.1.3 铁电存储器的工作原理
3.2 存储器失效机理
3.2.1 耐久力特性
3.2.2 数据保持力特性
3.3 总剂量试验分析
3.4 存储器辐射剂量率分析
3.4.1 模拟试验与空间辐射环境剂量率的差异
3.4.2 美国宇航局剂量率选择规律
3.4.3 不同剂量率辐射器件失效机理研究
3.5 存储器辐照后电参数测试的研究
3.5.1 存储器辐照影响
3.5.2 工作模式对试验结果的影响研究
3.6 小结
第四章 高温加速退火对试验结果影响的研究
4.1 试验样品及条件
4.2 试验程序
4.3 试验结果及分析
4.4 小结
第五章 总结与展望
5.1 本文主要工作及结论
5.2 展望
致谢
参考文献