声明
摘要
第一章 绪论
1.1 LaB6的结构、性能及应用
1.1.1 LaB6的晶体结构
1.1.2 LaB6的基本性质
1.1.3 LaB6的研究现状及应用
1.2 ITO薄膜的结构、性能及应用
1.2.1 ITO薄膜的晶体结构
1.2.2 ITO薄膜的基本性质
1.2.3 ITO薄膜的研究现状及应用
1.3 透明导电薄膜的发展和研究现状
1.3.1 透明导电金属薄膜
1.3.2 透明导电氧化物薄膜
1.3.3 叠层透明导电薄膜
1.4 薄膜生长原理及制备方法
1.4.1 薄膜的制备方法
1.4.2 薄膜的生长原理
1.5 基底表面等离子体预处理
1.6 选题意义及研究内容
第二章 实验内容及研究方法
2.1 实验材料
2.2 主要实验设备及功能
2.3 研究内容
2.3.1 实验方案和技术路线
2.3.2 柔性基底的选择及等离子体预处
2.3.3 单层薄膜以及多层复合薄膜的制备工艺研究
第三章 基底等离子体预处理及其性能研究
3.1 预处理微观形貌分析
3.1.1 PC微观结构
3.1.2 PMMA微观结构
3.1.3 PET微观结构
3.2 基底光学性能分析
3.3 基底的界面性能分析
3.3.1 基底的接触角分析
3.3.2 基底的表面形貌以及粗糙度分析
3.3.3 基底的表面高度测试及分析
3.4 本章小结
第四章 薄膜电极的组织结构研究
4.1 薄膜微观形貌分析
4.1.1 ITO薄膜微观形貌分析
4.1.2 ITO/LaB6薄膜微观形貌分析
4.1.3 ITO/LaB6/ITO薄膜微观形貌分析
4.2 表面粗糙度分析
4.2.1 三种薄膜表面粗糙度对比
4.2.2 ITO/LaB6薄膜表面粗糙度分析
4.2.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面粗糙度分析
4.3 表面高度分析
4.3.1 三种薄膜表面高度对比
4.3.2 ITO/LaB6薄膜表面高度分析
4.3.3 ITO/LaB6/ITO薄膜表面高度分析
4.4 本章小结
第五章 薄膜电极的性能研究
5.1 薄膜光学性能分析
5.1.1 ITO/LaB6薄膜光学性能分析
5.1.2 ITO/LaB6/ITO薄膜光学性能分析
5.2 薄膜电学性能分析
5.2.1 ITO/LaB6薄膜电学性能分析
5.2.2 ITO/LaB6/ITO薄膜电学性能分析
5.3 薄膜光电性能分析
5.4 本章小结
第六章 结论
参考文献
致谢
Ⅰ 参与项目
Ⅱ 获得奖励