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本人声明
第一章绪论
1.1高功率微波技术的进展
1.1.1高功率微波源的概况
1.1.2高功率微波源的现状
1.2高功率微波效应及防护
1.3高功率微波对半导体器件损伤研究的重要性
1.4研究高功率微波实验系统的重要意义
1.5本文所进行的研究工作
1.6小结
第二章电磁干扰传播和耦合理论
2.1电磁波的空间特性
2.2电磁干扰的方式
2.3.1辐射干扰
2.3.2传导干扰
2.3电磁干扰对电子系统的耦合
2.4小结
第三章高功率微波的防护
3.1电磁屏蔽的基本原理
3.1.1屏蔽的基本概念
3.1.2屏蔽的基本原理
3.2电磁屏蔽效能的表示方法
3.2.1屏蔽效能的定义
3.2.2屏蔽效能的三个组成部分
3.3金属屏蔽材料屏蔽效能的计算
3.3.1普通平板金属屏蔽效能计算
3.3.2铝板和钢板屏蔽效能的计算实例及对比分析
3.3.3带有孔洞的厚金属屏蔽体屏蔽效能计算
3.3.4高功率微波对屏蔽体孔缝效应的计算机仿真
3.4提高对高功率微波屏蔽效能的措施
3.4.1提高机箱的屏蔽效能
3.4.2接缝处的屏蔽
3.4.3设备的良好接地
3.5 小结
第四章实验系统的设计
4.1实验系统的确立
4.1.1设计初步
4.1.2实验方案简介
4.1.3实验设备简介
4.2 HPM脉冲对半导体器件损伤实验的可行性论证
4.2.1 HPM脉冲破坏电子设备性能的物理基础
4.2.2高功率微波能量的耦合途径
4.2.3设计可行性
4.3对实验系统中电路的滤波和屏蔽设计
4.3.1实验中宽带滤波器的设计
4.3.2实验中PCB板电磁兼容设计
4.3.3屏蔽盒的设计
4.4实验设备接地的设计
4.5小结
第五章实验过程及结果分析
5.1实验系统装置图
5.2实验数据及结果分析
5.3实验结论
5.4小结
结束语
参考文献
致谢