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第一章 绪论
1.1 引言
1.2 高性能覆铜板概述
1.3 高性能印制电路板用树脂基体的研究概况
1.3.1 环氧树脂(EP)
1.3.2 聚苯醚(PPO)
1.3.3 聚四氟乙烯(PTFE)
1.3.4 双马来酰亚胺树脂(BMI)
1.3.5 氰酸酯树脂(CE)
1.4 聚酰亚胺(PI)概述
1.4.1 聚酰亚胺结构与合成
1.4.2 聚酰亚胺的分类
1.4.2 聚酰亚胺的性能
1.5 聚酰亚胺的改性方法
1.5.1 引入柔性基团改性PI
1.5.2 引入扭曲的非共平面结构改性PI
1.5.3 引入液晶单元改性PI
1.5.4 特性原子改性PI
1.5.5 侧链改性PI
1.5.6 共聚改性PI
1.5.7 共混改性PI
1.5.8 PI的其它改性研究
1.6 聚酰亚胺在PCB中的应用
1.6 课题的提出和研究的主要内容
1.6.1 课题的提出
1.6.2 本论文的主要内容
第二章 二醚二胺单体的合成与表征
2.1 引言
2.2 实验
2.2.1 实验试剂及仪器
2.2.2 1,3-双(4-氨基苯氧基)苯(BAPB134)的合成
2.2.3 1,4-双(4-氨基苯氧基)苯(BAPB)的合成
2.2.4 2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷(BAPP)的合成
2.2.5 氯化铁/活性炭催化体系还原二硝基化合物
2.2.6 二醚二胺单体及其硝基化合物的表征
2.3 结果与讨论
2.3.1 二醚二胺单体的合成原理
2.3.2 二醚二胺单体及其硝基化合物合成条件的选择
2.3.3 1,3-双(4-氨基苯氧基)苯及其硝基化合物的物化性质
2.3.4 1,4-双(4-氨基苯氧基)苯及其硝基化合物的物化性质
2.3.5 2 ,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷的物化性质
2.4 本章小结
第三章 二醚二胺共聚型聚酰亚胺的制备与性能
3.1 引言
3.2 实验
3.2.1 实验试剂及仪器
3.2.2 试剂和原料的精制
3.2.3 共聚酰胺酸的合成
3.2.4 共聚酰亚胺粉末的制备
3.2.5 共聚酰亚胺薄膜的制备
3.2.6 测试与表征
3.3 结果与讨论
3.3.1 聚酰亚胺的合成原理
3.3.2 共聚酰亚胺的制备方法
3.3.3 共聚酰亚胺及其聚酰胺酸的红外光谱特征
3.3.4 共聚酰胺酸的粘度
3.3.5 共聚酰亚胺的溶解性能
3.3.6 共聚酰亚胺薄膜的热性能
3.3.7 共聚酰亚胺薄膜的力学性能
3.3.8 共聚酰亚胺薄膜的X-射线衍射分析
3.4 本章小结
第四章 PMDA-ODA/PMDA-BAPB134型PI共混物
4.1 引言
4.2 实验
4.2.1 实验原料及仪器
4.2.2 聚酰胺酸共混物的制备
4.2.3 聚酰亚胺共混物薄膜的制备
4.2.4 测试与表征
4.3 结果与讨论
4.3.1 聚酰胺酸共混物的粘度
4.3.2 聚酰亚胺共混物薄膜的热性能
4.3.3 聚酰亚胺共混物薄膜的力学性能
4.3.4 聚酰亚胺共混物薄膜的X-射线衍射分析
4.4 本章小结
结 论
参考文献
攻读硕士学位期间取得的研究成果
致 谢