单晶金刚石及金刚石膜化学机械法抛光研究

摘要

本论文研究金刚石膜化学机械法抛光的工艺和机理，详细实验并分析了压力、温度、氧化剂、抛光转速、添加剂、预处理等因素对抛光效果和效率的影响。　　本文首先研究了氧化剂对金刚石及金刚石膜的腐蚀氧化现象进行了研究。　　本文重点研究了化学机械法抛光金刚石膜的效果和抛光机理。结果表明抛光温度和压力对抛光影响最大，温度过低或者压力过低均使得抛光质量和效率相当低，这和单晶金刚石的实验结果是一致的。

目录

文摘

英文文摘

第一章绪论

1.1本课题的研究意义

1.2国内外研究现状

1.2.1金刚石与金刚石膜的性质

1.2.2金刚石及CVD金刚石膜的抛光技术

1.3本课题的来源与主要研究内容

1.3.1课题的来源

1.3.2本课题的来源与主要研究内容

1.3.3课题研究的主要目标

第二章实验装置设计

2.1导言

2.2实验装置设计原则

2.3化学机械法抛光实验装置设计

2.3.1抛光装置设计方案一

2.3.2抛光装置设计方案二

2.3.3抛光装置设计方案三

2.3.4方案的选定

第三章实验研究方案设计

3.1实验总体思路

3.2实验条件

3.2.1金刚石及金刚石膜的固定

3.2.2抛光底盘的选择

3.2.3氧化剂的选择

3.2.4添加剂的选择

3.3实验条件和实验方法

3.3.1实验用单晶金刚石及金刚石膜

3.3.2静态氧化实验设备

3.3.3化学机械法抛光实验设备

3.3.4化学机械法抛光步骤

3.4实验测试分析仪器与分析方法

3.5实验条件及实验方法

3.5.1静态氧化实验条件及方法

3.5.2化学机械法抛光实验条件及方法

第四章单晶金刚石化学机械法抛光研究

4.1单晶金刚石静态氧化实验

4.2单晶金刚石化学机械抛光实验

4.3金刚石抛光去除过程及机理讨论

4.3.1单晶金刚石抛光面激光拉曼光谱分析

4.3.2抛光后金刚石的原子力显微镜分析

4.3.2金刚石化学机械法抛光去除机理分析

4.4本章小结

第五章金刚石膜化学机械法抛光研究

5.1金刚石膜静态氧化实验及分析

5.2金刚石膜抛光的去除过程及机理分析

5.2.1金刚石膜抛光的去除过程

5.2.2拉曼光谱分析

5.2.3金刚石膜抛光表面原子力显微镜分析

5.2.4金刚石膜抛光机理分析

5.3工艺参数对抛光金刚石膜的影响

5.3.1氧化剂种类及配方对抛光的影响

5.3.2抛光转速对抛光的影响

5.3.3金刚石膜压力对抛光的影响

5.3.4实验温度对抛光的影响

5.3.5添加剂对抛光的影响

5.4预处理对抛光的影响

5.4.1纯机械法初磨对抛光的影响

5.4.2静态氧化预处理对抛光的影响

5.5本章小结

结论与展望

一、结论

二、展望

参考文献

攻读学位期间所发表论文及所申请专利

发表论文：

申请专利：

独创性声明

致谢