金刚石膜机械和机械-化学抛光

摘要

化学气相沉积(CVD)法生成的金刚石膜具有天然金刚石的基本性质,在机械、电子、光学等领域都有着广泛的应用.但CVD金刚石多晶膜表面凹凸不平,表面粗糙度较大,限制了它的广泛应用,因此,金刚石膜的抛光成为必不可少的工艺步骤.但是,金刚石膜的硬度非常高,且厚度薄,整体强度低,易破裂或剥落,抛光难度很大.国内外学者通过实验和研究,提出了多种金刚石膜抛光的理论和方法.本文详细论述了几种典型的机械、化学、机械-化学抛光方法的机理、工艺和特点.